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无尘无氧化烤箱的规范操作方法介绍

更新时间:2025-09-17       浏览次数:232
   在半导体封装、精密电子、新能源电池、光学镀膜及材料烧结领域,无尘无氧化烤箱集高洁净度、惰性气氛保护与精准温控于一体,为敏感材料提供无污染、无氧化的加热环境,运行质量直接影响产品良率与性能稳定性。掌握无尘无氧化烤箱科学、规范的操作方法,是确保其高效的关键。

 


  第一步:环境准备与气源确认
  将设备置于洁净车间或独立通风区,远离粉尘与振动源。检查氮气(N2)或氩气(Ar)气源压力是否充足(通常≥0.4MPa),管道连接牢固无泄漏。确认排气口接入专用废气处理系统,避免有害气体积聚。
  第二步:开机自检与气氛置换
  接通电源,开启总开关。启动控制系统,进行系统自检。关键步骤:开启惰性气体阀门,执行“预吹扫”程序(通常10–30分钟),用高纯气体(≥99.999%)置换腔体内空气,将氧含量降至设定阈值(如<10ppm)。通过氧分析仪实时监测,确保气氛达标。
  第三步:装载物料与密封操作
  佩戴洁净手套,使用无尘工具将待烘物料(如晶圆、电极片、陶瓷生坯)放入石英或不锈钢舟皿中。轻缓推入炉膛,避免震动产生颗粒。关闭炉门,手动或自动锁紧密封结构,确保腔体气密性。严禁在无气体保护下加热。
  第四步:参数设定与程序启动
  通过触摸屏设定工艺曲线:
  温度:设定升温速率、恒温温度(如150℃、300℃、600℃)与保温时间;
  气氛:设定气体流量(如5–20L/min)与压力(微正压);
  时间:可设置多段升温-保温-降温程序。
  确认无误后启动运行,系统自动执行控温与气氛维持。
  第五步:运行监控与过程记录
  观察温度曲线、气体流量与氧含量实时数据,确保在设定范围内。部分型号支持远程监控与报警推送。严禁在运行中频繁开门,防止氧气侵入与温度骤降。
  第六步:降温与取料
  程序结束后,系统自动降温。关键步骤:保持惰性气体持续通入,直至炉温降至安全温度(如<80℃),防止高温物料接触空气氧化。确认氧含量稳定后,方可开门取料。取出物料后立即密封包装,避免二次污染。
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